什么是驻留时间？
是光刻技术里面一个很重要的概念，和波长一样重要。 简单地说，光源的波长也就是单个光子的能量，而驻留时间就是指光源照射在待加工材料上的总的时间。这个持续时间非常短（纳秒级）。如果待加工材料厚的话，那么就要增加很多倍的时间。
以目前最先进的光刻技术极紫外光（EUV）为例，它的波长大约在13.5nm左右，而人体眼睛的瞳孔大小约为8μm，这意味着一个这么小的黑点，它发射的电磁波几乎可以覆盖整个可见光范围(>700nm)。
所以用肉眼来看待这个小黑点的时候，它其实是在不停地做周期运动，就像一个小圆点在不停地旋转前进。 这个小圆点的周期运动产生了干涉条纹，而这个干涉条纹的周期性变化最终形成了我们人眼中的彩色图像。 所以从光学原理上来说，这个彩色的圆圈其实是一个动态的图片，而我们眼睛对动态图片的最小识别单位就是24帧/秒。
为了达到最高的工作频率，在镜头与待加工材料之间加入了光学镜架，以尽可能缩短光在路上传递所消耗的时间。而且为了保证曝光时间不超过极限，采用了超高功率超短脉冲激光器作为光源，把脉宽很窄的高频脉冲激光束聚焦成直径只有几十个纳米的小黑点来工作。 当这种超高功率的超短脉冲激光器工作时，它等效于一个具有无限大电流的灯泡，灯泡的亮度同普通的白炽灯或发光二极管完全相同。但它的波长非常短，几乎是波长为1纳米的x射线和波长为1埃的γ射线。这样小的量子非常容易被吸收或者发生次生反应导致无法加工。如何能够让单个光子完全无损失地打到待加工材料上是这项工艺最大的技术难点之一。